它是一种多功能型号，可以溅射各种金属，包括流行的钨。 它用于从表面观察到实验应用的广泛领域。 高纯度真空区域对于制备的样品至关重要。 msp-40t 能够因涡轮泵排气而在真空区域飞溅。
装置 特征 目标金属
msp-40t是一种多用途的实验室沉积装置。 新型号配备了全自动薄膜沉积功能。高效的薄膜沉积，排气速度快，操作简单。 各种金属薄膜可以通过强磁场沉积。涡轮泵和隔膜泵可实现清洁和高真空。 是一款性价比低廉的设备。薄膜沉积靶材：金、银、铂、金-钯、钯、铜、铬、钯、镍、铁、钨、钼、钼、钛、铝、ito等。 对于未列出的目标，请联系我们。
用于复杂形状样品和超高放大倍率观察对于形状复杂且超高放大倍率观察200，000倍或以上的样品，请考虑具有出色环绕性和细颗粒的锇镀膜机。
os：锇由于它被包覆在气体气氛中，因此可以很好地包裹样品，并且粒径非常小。主要用于涂覆生物样品和具有三维结构的样品。
w：钨颗粒体系与锇相当，但由于薄膜沉积方法的差异，其环绕性不如锇镀膜机。